产品参数:
型号 | 真空等离子清洗机TS-PL200MA |
射频电源 |
13.56MHz |
电源匹配器 |
0~1000W可调 |
PLC自动控制系统 |
日本三菱 |
变频控制系统 |
台湾台达,PID闭环控制,真空度可维持 |
人机工控系统 |
台湾威纶、7寸 |
真空泵 |
飞越 |
真空排气系统 |
北仪、全不锈钢管路+波纹管+2级过滤装置 |
真空供气系统 |
SMC、Φ6全不锈钢管+不锈钢锁套管路 |
变频控制系统 |
台达PID闭环控制 |
破真空系统 |
北仪、 |
工作真空度 |
10~60pa(可根据要求设定,可恒定真空度) |
设备重量(含主机/真空泵) |
500KG |
压缩空气要求 |
0.6~0.8MPa |
处理气体 | O2、N2、Ar2、CF4 |
东信高科真空等离子清洗机性能优势:
1、适用形状复杂样品,包括内孔内壁,全方位均匀清洗。
2、处理全程无污染。
3、进口精密CNC数控机床加工工艺,并经过进口三坐标测量仪进行质量监控。
4、密封性卓越的真空腔体设计,军工级别的高真空度腔体设计及制造工艺。
5、原装进口电源电路技术,产生高密度等离子体,确保出众的清洗效果。
6、特殊处理及特殊结构的放电装置,确保形成稳定均匀的等离子体。
7、采用高精度电子流量计,美国世维洛克气体管路及阀件。
8、自主研发的低压真空等离子清洗软件系统,性能稳定可靠,操作简单,便于维护,高效便捷。
9、强大全面的安全防护系统,温度安全防护功能,过载防护功能,短路断路报警防护功能,各种误操作保护功能。
真空等离子清洗机原理:
1.1 等离子体反应机理
等离子体是正离子和电子的密度大致相等的电离气体。由离子、电子、自由激进分子、光子以及中性粒子组成,是物质的第四态。在等离子体中除了气体分子、离子和电子外,还有存在受到能量激励状态电中性的原子或原子团(又称自由基),以及等离子体发射出的光线,其中波的长短、能量的高低,在等离子体与物体表面相互作用时有着重要的作用。
1.2等离子体表面处理机理:
(A)对材料表面的刻蚀作用
物理作用 等离子体中的大量离子、激収态分子、自由基等多种活性粒子,作用到固体样品表面,清除了表面原有的污染物和杂质,而且会产生刻蚀作用,将样品表面变粗糙,形成许多微细坑洼,增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。
(B)激活键能,交联作用
等离子体中的粒子能量在 0~20eV,而聚合物中大部分的键能在 0~10eV,因此等离子体作用到固体表面后,可以将固体表面的原有的化学键产生断裂,等离子体中的自由基中的这些键形成网状的交联结构,大大地激活了表面活性。
(C)形成新的官能团
化学作用如果放电气体中引入反应性气体,那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应,引入新的官能团,如烃基、氨基、羧基等,这些官能团都是活性基团,能明显提高材料表面活性。
1.3真空等离子清洗机工作原理
该设备主要由真空腔体及高频等离子电源、抽真空系统、充气系统、自动控制系统等部分组成。工作基本原理是在真空状态下,利用真空泵将工作室进行抽真空达到0.15-0.3mbar的真空度,再在高频发生器作用下,将气体进行电离,形成等离子体(物质第四态),然后利用等离子体对工件进行表面处理。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光,材料处理温度接近室温。这些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用,得到了表面亲水性、拒水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等各种表面改性。
真空等离子清洗机使用范围:
1.等离子表面活化/清洗; 2.等离子处理后粘合; 3. 等离子蚀刻/活化; 4. 等离子去胶; 5. 等离子涂镀(亲水,疏水); 6. 增强邦定性;7.等离子涂覆; 8.等离子灰化和表面改性等场合。
通过其处理,能够改善材料表面的浸润能力,使多种材料能够进行涂覆、镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。
售后服务:
响应迅速,在深圳、苏州、成都、长沙、郑州等地均有售后服务团队。供方严格按现行国家标准及技术规格要求确保产品性能、质量.
真空等离子清洗机整机保修壹年。保修期内设备如出现故障(非人为损坏),乙方安排售后人员跟进处理,直至故障排除,(非工作时间及工作日除外)质保期后,供应商免费提供技术咨询及检修费,只收取相关成本费。