plasma等离子清洗

plasma等离子清洗就是我们常说的等离子清洗技术，等离子清洗的应用，起源于 20 世纪初，随着高科技产业的快速发展，其应用愈来愈广，目前已在众多高科技领域中，居于关键技术的地位。等离子清洗技术对产业经济和人类文明影响最大，首推电子资讯工业，尤其是半导体业与光电工业。等离子清洗已应用于各种电子元件的制造，可以确信，没有等离子清洗技术，就没有今日这么发达的电子、资讯和通讯产业。此外，等离子清洗技术也应用在光学工业、机械与航天工业、高分子工业、污染防治工业和量测工业上，而且是产品提升的关键技术。比如说光学元件的镀膜、延长模具或加工工具寿命的抗磨耗层、复合材料的中间 层、织布或隐型镜片的表面处理、微感测器的制造，超微机械的加工技术、人工关节、骨骼或心 脏瓣膜的抗磨耗层等皆需等离子技术的进步，才能开发完成。

等离子技术是一新兴的领域，该领域结合等离子物理、等离子化学和气固相界面的化学反应，此为典型的高科技行业，需跨多种领域，包括化工、 材料和电机，因此将极具挑战性，也充满机会。 由于半导体和光电材料在未来的快速成长，此方面应用需求将越来越大。

等离子（plasma）清洗技术原理：

等离子体与物体表面的作用

在等离子体中除了气体分子、离子和电子外， 还存在受到能量激励状态的电中性的原子或原子团 （又称自由基），以及等离子体发射出的光线。其 中波的长短、能量的高低在等离子体与物质表面相 互作用时有着重要作用。

原子团等自由基与物体表面的反应 由于这些自由基呈电重型，存在寿命较长，而 且在等离子体中的数量多于离子，因此自由基在等 离子体中发挥着重要作用。自由基的作用主要表现 在化学反应过程中能量传递的“活化”作用，处 于激发状态的自由基具有较高的能量，因此易于与 物体表面分子结合时会形成新的自由基，新形成的 自由基同样处于不稳定的高能量状态，很可能发生 分解反应，在变成较小分子同时生成新的自由基， 这种反应过程还可能继续进行下去，最后分解成 水、二氧化碳之类的简单分子。在另一些情况下， 自由基与物体表面分子结合的同时，会释放出大量 的结合能，这种能量又成为引发新的表面反应推动 力，从而引发物体表面上的物质发生化学反应而被 去除。

电子与物体表面的作用

一方面电子对物体表面的撞击作用，可促使吸 附在物体表面的气体分子发生分解或解吸，另一方 面大量的电子撞击有利引发化学反应。由于电子质 量极小，因此比离子的移动速度要快得多。当进 行等离子体处理时，电子要比离子更早到达物体表 面，并使表面带有负电荷，这有利于引发进一步 反应。

离子与物体表面的作用 

通常指的是带正电荷的阳离子的作用，阳离子 有加速冲向带负电荷表面的倾向，此时使物体表面 获得相当大的动能，足以撞击去除表面上附着的颗 粒性物质，我们把这种现象称为溅射现象。而通 过离子的冲击作用可极大促进物体表面化学反应发 生的几率。

紫外线与物体表面的反应

紫外线具有很强的光能，可使附着在物体表面 物质的分子健发生断裂而分解，而且紫外线具有很 强的穿透能力，可透过物体的表层深入达数微米而产生作用。

综上所述，可知等离子清洗机是利用等离子体内的各种具有高能量的物质的活化作用，将附着在物体表面的污垢彻底剥离去除。