等离子体清洗机

等离子体清洗采用气体作为清洗介质, 不存在使用液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子体清洗机工作时真空清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面, 短时间的清洗就可以使污染物被彻底地清洗掉, 同时污染物被真空泵抽走, 其清洗程度可达到分子级。

等离子体是由Sir William Crookes在1879年发现的。而等离子体清洗机应用于工业, 源于20世纪初。并且随着等离子体物理研究的深入, 其应用越来越广, 目前已在众多高科技领域中, 居于关键技术的地位。等离子清洗技术对产业经济和人类文明影响最大的, 首推电子资讯工业, 尤其是半导体业与光电工业。

目前已广泛应用的物理化学清洗方法, 大致可分为两类:湿法清洗和干法清洗。干法清洗中发展较快、优势明显的是等离子体清洗, 等离子体清洗已逐步在半导体制造、微电子封装、精密机械等行业开始普遍应用。湿法清洗要大量使用酸碱等化学物质, 而且清洗后产生大量的废气、废液。当然湿法清洗目前在清洗工艺中还占据主导地位。但是从对环境的影响、原材料的消耗来看, 干法清洗要明显优于湿法清洗, 更应是未来清洗方法的发展方向。

我司从事等离子体清洗行业已经二十年，是国内最早一批从事真空及大气低温等离子体（电浆）技术、射频及微波等离子体技术研发、生产、销售于一体的国家高新技术企业，隶属于东信高科等离子科技（香港）控股有限公司，总部设于香港 。公司目前生产的等离子清洗设备有，大气等离子体清洗机，真空等离子体清洗机，线性辉光等离子体清洗机，FPC/PCB 等离子刻蚀机。产品广泛应用于微波印制电路、FPC、触摸屏、LED、wire$DieBonding、医疗行业、培养皿处理、材料表面改性及活化等领域。欢迎广大新老客户致电咨询。