光学镜片镀膜前清洗

光学镜片的镀膜技术是整个光学系统的一个重要组成部分，良好的镀膜技术能改善镜片的折射率、阿贝数、散射、衍射和化学性能。光学薄膜真空镀膜技术一般采用物理气相沉积（PVD）技术，包括热蒸发、溅射、离子镀等方法。而在镀膜前的光学镜片一般须经过离心力清洗机和超声波清洗机清洗，但若想要得到超洁净的基体表面，则需进一步的采用等离子清洗，不仅能去除表面经离心力清洗和超声波清洗后的有机残留物，还能对于后道镀膜技术起到积极作用。

光学镜片等离子清洗机的原理是这样的，利用能量转换技术，在一定真空负压的状态下，以电能将气体转化为活性极高的气体等离子体，气体等离子体能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗，在极短时间内有机污染物就被外接真空泵彻底抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的介质，所以能有效避免样品的再次污染。等离子清洗机既能加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也能对样品进行消毒和杀菌。