等离子清洗机维护保养方法与保养计划

等离子清洗机在各行各业已经广泛应用，等离子清洗机设备原理并不复杂，但是一套完整的等离子系统包含很多方面。在使用过程中，合理有效的进行设备维护，能够减少设备的故障率，增加设备的使用寿命，同时能够保证清洗达到生产的工艺标准。这在工业生产制造上，能起到很大的稳定作用。

等离子清洗机原理是两个电极之间形成高频交变电场，用真空泵在装置的密闭容器中实现一定的真空度（见图1）随着气体越来越稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也越来越长，区域内气体在交变电场的激荡下，形成等离子体。在真空和瞬时高温状态下，活性等离子对孔壁内钻污、残胶及油污等污染物进行物理轰击与化学反应双重作用，污染物部分蒸发或在高能量离子的冲击下被击碎，使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质，经过抽真空排出，从而达到清洗目的。

在实际生产中，我们发现等离子清洗机一些重要的部件会随着使用时间的推移产生不同程度的氧化、老化、腐蚀等问题，会是引起等离子清洗机达不到清洗效果的原因，例如反应腔、电极、托板架、气体的压力等。以下介绍了几个关键部位保养前后的效果以及如何进行保养。

等离子清洗机腔体清洁

等离子腔体清洁时产生的污物大部分都接近电子级别，会随着真空泵排除。但也会有一些大颗粒污染物产生。这些大颗粒污物会附着在腔壁、电极和托板架上。腔壁上有一层薄薄的“灰”，腔底掉落更严重。对于腔壁用不可掉落的毛刷清洁使颗粒粉尘异物在腔壁脱落，用吸尘机将污物吸出。用脱脂布沾酒精擦拭，其次腔体导入N2和O2，用等离子体清除腔体内残余物，工作10min。

电极与托板架的保养

托板架和电极长时间使用后会附着氧化层，同时采用等离子体处理烃基材料时，一段时间后在托板架、电极，RF导电杆上会积累一层薄的烃基残留物，这些残留物和氧化层是无法用酒精擦拭掉的。应依据附着物的量对电极、托板架进行翻新维护能保证清洗的稳定。清洗材料要求：氢氧化钠、硫酸、城市用水和蒸馏水。注意：不要使用手磨机、砂纸或磨蚀性喷砂处理等机械方法清洁；氢氧化钠溶液会与铝发生剧烈的化学反应，应小心谨慎以确保仅在所需的时间内清除沉积物；反应中会生成具有潜在爆炸性的氢气，因此工作区域应保持良好的通风。

真空泵的保养

查看真空泵油位和油的纯度，观察油位视窗，发现油位接近最低红线刻度，加油到红标线上下之间位置。

定期保养计划

等离子清洗机在使用过程中，腔体内出现的一些残留物和氧化层，在前期发展阶段，该薄层并不影响设备的运行或成品。但是经过持续的运转后，发现了清洗效果不稳定，能察觉到微小改变，所以在使用一段时间之后是需要将托板架与电极进行清洗翻新。同时设备出现的故障也直接体现设备的保养的程度。如经适当的维修、翻新，电极的使用寿命可达到预期使用的最大值。那么通过等离子清洗设备的原理和构成制定可行性保养计划很关键。从图1可看出等离子设备的三大条件是真空环境（真空机组，真空检测仪，腔体的密闭）、高能量（射频电源、温度、工艺气体）和介质（腔体、电极、托板架）组成。那么等离子清洗机的保养应从以上这些方面进行，根据保养项目划分周期分为每日、每周、每月、半年、每年、2~3年，见表1。

等离子清洗机维护保养计划

在实际生产过程中，影响等离子清洗效果的不仅仅是工艺技术，还有设备的稳定性，比如工艺气体的微小泄露、电极托板架的烃基残留物、腔体内其他管道的氧化程度以及设备本身不同程度的故障这些都是在生产制造过程中直接对生产产生影响。因此，做好等离子清洗机维护保养非常必要。