基本参数：
| 电源频率 | 40KHz/13.56MHz |
| 容量 | 30L |
| 功率 | 0~500W（可调） |
| 腔体尺寸(mm) | 300*300*300 |
| 处理层数 | 7 |
| 外形尺寸(mm) | 650W*700D*1400H |
| 真空泵 | 油泵/干泵+罗茨组合 |
| 真空度 | 5~100Pa（可调） |
| 腔体材质 | 316不锈钢/进口铝合金（选配） |
| 气体流量控制 | 0~500SCCM(MFC±2%) |
| 气体通道 | 两路(可增加)：Ar/N2/H2/CF4/O2 |
| 等离子体发生器 | 40KHz/13.56MHz(选配) |
| 腔体温度 | ＜30度 |
| 控制方式 | PLC+触摸屏 |
| 系统控制软件 | 自主研发 |
| 电极陶瓷 | 进口高频陶瓷 |
产品特点:
真空等离子清洗机腔体、电源、真空泵等各类配件可以按照实际清洗的材料自由定做，与常压等离子相比，具有清洗工艺参数自由调节、温度低，清洗全面等特点。广泛应用于活化，退镀，改性，蚀刻，提升附着力和清洗等等功能。该设备也是目前清洗行业最环保，最节能，有效性好的理想设备
主要功能：蚀刻：对于光致抗蚀剂聚酰亚胶的残留和以硅化物为基本成分的涂层等材料的清除很有用粘附提升：往基质上添加活化能力强的化学基团以提高其粘合剂的黏着度。
清洗：清除材料上的光学物质的污染以及清除有机物残留，氧化和金属盐等对材料的污染。
活化：能使处理基材表面生成所需化学极键；退镀：使被处理基材除去金属等材料，制作各种产品。
等离子清洗技术对产业经济和人类文明影响最大，首推电子资讯工业，尤其是半导体业与光电工业。等离子清洗已应用于各种电子元件的制造，可以确信，没有等离子清洗技术，就没有今日这么发达的电子、资讯和通讯产业。此外，等离子清洗技术也应用在光学工业、机械与航天工业、高分子工业、污染防治工业和量测工业上，而且是产品提升的关键技术。比如说光学元件的镀膜、延长模具或加工工具寿命的抗磨耗层、复合材料的中间层、织布或隐型镜片的表面处理、微感测器的制造，超微机械的加工技术、人工关节、骨骼或心脏瓣膜的抗磨耗层等皆需等离子技术的进步，才能开发完成。
