氩气真空等离子清洗机的原理，等离子处理为什么...

氩气是一种工业上面常用的气体，不仅用于清洗，也用于电焊或者金属切割，在等离子清洗中主要被应用于基材表面的物理清洗及表面粗化，最大的特点就是在表面清洗中不会造成精密电子器件的表面氧化。正因如此，氩等离子清洗机在半导体、微电子、晶圆制造等行业被广泛应用。

氩气在真空等离子清洗机中被电离所产生的等离子体呈暗红色。所以大家平时所见的真空等离子清洗机，机器启动时，真空腔室里面都是显示的暗红色，表示真空等离子正在产生反应。

在相同的放电环境下，氢气和氮气所产生的等离子体颜色都是呈红色，但氩等离子体的亮度会低于氮气且高于氢气，还是比较好区分的。

在晶圆、玻璃等产品表面颗粒的清除过程中，通常会采用等离子体对材料表面的颗粒进行轰击，加以实现对颗粒的分散和松动处理，然后再进行离心清洗等处理工艺，会有着显著的效果。在半导体封装应用中尤为突出，在经过打线工艺后为防止导线氧化，需采用氩等离子体或氩氢等离子对产品表面进行等离子清洗，实现更好的产品处理效果。

等离子清洗机的表面粗化处理也称为表面刻蚀处理，其主要目的是提升材料的表面粗糙度，进而增强材料的粘接、印刷和焊接等性能。其他活性气体经处理后也可提升产品表面张力，但氩离子化产生的颗粒要更重，在电场的作用下氩离子的动能较高于其他活性气体，所以其粗化效果更号。氩气在无机物表面粗化的过程中应用最为广泛，如玻璃基材的表面处理、金属基材的表面处理等。

大气压等离子有三种效果模式可选。一是选用 氩气/氧气 组合，主要面向非金属材料并且要求较高的处理效果时采用。 二是选用 氩气/氮气 组合，主要面向待处理产品有不能被处理的金属区域，因氧气的强氧化作用，替换为此方案中的氮气后，该问题可以加以控制。三是只采用氩气的情况，只采用氩气也可以实现表面改性，但是效果相对较低。此种情况较特殊，是少数工业客户需要有限度的同时均匀的表面改性时采用的方案。

大气压式等离子，也是低温等离子，不会对材料表面造成损伤。无电弧，无需真空腔体，也无需有害气体吸出系统，长时间使用并不会对操作人员造成身体损害。

等离子应用在清洗机行业，主要分为两大类，一类是常压的，或者做大气等离子清洗机，就是在平时正常环境下面直接使用的。另外一种是真空等离子清洗机，这个是需要在真空环境下面使用的。常压的等离子清洗机，主要是用来处理一些平面立体的物体，比如手机玻璃板，而真空等离子清洗机则是用来处理一些异形件，或者对处理要求比较高的物体。比如汽车连接件，这些物体直接用常压等离子清洗机，直接喷射处理肯定不到位，这个时候就需要用到真空等离子清洗机

等离子处理为什么需要真空环境?

在真空环境产生等离子体的原因很多,主要有有两个原因:

引入真空室的气体在压力环境下不会电离,在充入气体电离产生等离子体之前必须达到真空环境。另外，真空环境允许我们控制真空室中气体种类，控制真空室中气体种类对等离子处理体过程的可重复性是至关重要的。

要进行等离子处理产品,首先我们产生等离子体。首先，单一气体或者混合气体被引入密封的低压真空等离子体室。随后这些气体被两个电极板之间产生的射频(RF) 激活，这些气体中被激活的离子加速，开始震动。这种振动“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。

在处理过程中,等离子体中被激活的分子和原子会发出紫外光，从而产生等离子体辉光。温度控制系统常用于控制刻蚀速率。60 - 9d摄氏度温度之间刻蚀，是室温刻蚀速度的四倍。对温度敏感的部件或组件,等离子体蚀刻温度可以控制在15摄氏度。我们所有的温度控制系统已经预编程并集成到等离子体系统的软件中间。设置保存每个等离子处理的程序能轻松复制处理过程。